화학물질 및 물리적인자의 노출기준 변경물질

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화학물질 및 물리적인자의 노출기준

제정 1986.12.22(노동부고시 제86-45호)

개정 1988.12.23(노동부고시 제88-69호)

개정 1991. 3.30(노동부고시 제91-21호)

개정 1998. 1. 5(노동부고시 제97-69호)

개정 2002. 2. 4(노동부고시 제2002-2호)

개정 2002. 5. 6(노동부고시 제2002-8호)

개정 2007. 6. 8(노동부고시 제2007-25호)

제 1 장 총 칙

제1조(목적) 이 고시는 산업안전보건법(이하 “법”이라 한다) 제39조 제2항, 제42조 및 같은 법 시행규칙(이하 “규칙”이라 한다) 제81조의2에 따라 인체에 유해한 가스, 증기, 미스트, 흄이나 분진과 소음 및 고온 등 화학물질 및 물리적인자(이하 “유해인자”라 한다)에 대한 작업환경평가와 근로자의 보건상 유해하지 아니한 기준을 정함으로써 유해인자로부터 근로자의 건강을 보호하는데 기여함을 목적으로 한다.

제2조(정의) ①이 고시에서 사용하는 용어의 정의는 다음과 같다

1. “노출기준”이라 함은 근로자가 유해인자에 노출되는 경우 노출기준이하 수준에서는 거의 모든 근로자에게 건강상 나쁜 영향을 미치지 아니하는 기준을 말하며, 1일 작업시간동안의 시간가중평균노출기준(Time Weighted Average, TWA), 단시간노출기준(Short Term Exposure Limit, STEL) 또는 최고노출기준(Ceiling, C)으로 표시한다.

2. “시간가중평균노출기준(TWA)"이라 함은 1일 8시간작업을 기준으로 하여 유해인자의 측정치에 발생시간을 곱하여 8시간으로 나눈 값을 말하며 산출공식은 다음과 같다

TWA환산값=	C1․T1＋C2․T2＋․․․․․․ ＋Cn․Tn
	8

주) C:유해인자의 측정치(단위:ppm 또는 ㎎/m3)

T:유해인자의 발생시간(단위:시간)

3. “단시간노출기준(STEL)“이라 함은 근로자가 1회에 15분간 유해인자에 노출되는 경우의 기준으로 이 기준 이하에서는 1회 노출간격이 1시간 이상인 경우 1일 작업시간 동안 4회까지 노출이 허용될 수 있는 기준을 말 한다

4. “최고노출기준(C)"이라 함은 근로자가 1일 작업시간동안 잠시라도 노출되어서는 아니되는 기준을 말하며, 노출기준 앞에 ”C"를 붙여 표시한다

②이 고시에서 특별히 규정하지 아니한 용어는 법, 동법시행령(이하 “영”이라 한다), 규칙 및 산업보건기준에관한규칙(이하 “보건규칙”이라 한다)이 정하는 바에 의한다.

제3조(노출기준 사용상의 유의사항) ①각 유해인자의 노출기준은 당해 유해인자가 단독으로 존재하는 경우의 노출기준을 말하며, 2종 또는 그 이상의 유해인자가 혼재하는 경우에는 각 유해인자의 상가작용으로 유해성이 증가할 수 있으므로 제6조의 규정에 의하여 산출하는 노출기준을 사용하여야 한다.

②노출기준은 1일 8시간 작업을 기준으로 하여 제정된 것이므로 이를 이용할 때에는 근로시간, 작업의 강도, 온열조건, 이상기압등이 노출기준 적용에 영향을 미칠 수 있으므로 이와같은 제반요인에 대한 특별한 고려를 하여야 한다.

③유해인자에 대한 감수성은 개인에 따라 차이가 있으며 노출기준 이하의 작업환경에서도 직업성 질병에 이환되는 경우가 있으므로 노출기준을 직업병진단에 사용하거나 노출기준 이하의 작업환경이라는 이유만으로 직업성질병의 이환을 부정하는 근거 또는 반증자료로 사용할 수 없다.

④노출기준은 대기오염의 평가 또는 관리상의 지표로 사용할 수 없다.

제4조(적용범위) ①노출기준은 법 제24조에 따른 작업장의 유해인자에 대한 작업환경개선기준과 법 제42조에 따른 작업환경측정결과의 평가기준으로 사용할 수 있다.

②이 고시에 유해인자의 노출기준이 규정되지 아니하였다는 이유로 법, 영, 규칙 및 보건규칙의 적용이 배제되지 아니하며, 이와같은 유해인자의 노출기준은 미국산업위생전문가회의(ACGIH)에서 매년 채택하는 노출기준(TLVs)을 준용한다.

제 2 장 노 출 기 준

제5조(화학물질) 화학물질의 노출기준은 별표 1-1 및 1-2와 같다

제6조 (혼합물) ①화학물질이 2종이상 혼재하는 경우 혼재하는 물질간에 유해성이 인체의 서로 다른 부위에 작용한다는 증거가 없는 한 유해작용은 가중되므로 노출기준은 다음식에 의하여 산출하는 수치가 1을 초과하지 아니하는 것으로 한다.　

C1	＋	C2	＋․․․․․․․․ ＋	Cn
T1	＋	T2	＋․․․․․․․․ ＋	Tn

주) C:화학물질 각각의 측정치

T:화학물질 각각의 노출기준

②제1항의 경우와는 달리 혼재하는 물질간에 유해성이 인체의 서로 다른 부위에 유해작용을 하는 경우에는 유해성이 각각 작용하므로 혼재하는 물질중 어느 한 가지라도 노출기준을 넘는 경우 노출기준을 초과하는 것으로 한다.

제7조(분진) ①총분진(Total dust) 및 호흡성분진(Respirable dust)의 노출기준은 별표 2-1 및 2-2와 같다.

제8조(용접분진) 용접 또는 용단시 발생되는 용접흄이나 분진의 노출기준은 5㎎/m3로 한다. 다만, 용접 또는 용단시 발생되는 유해가스나 증기는 별도로 각각의 노출기준을 사용한다.

제9조(소음) ①소음수준별 노출기준은 별표 3-1과 같다,

②충격소음의 노출기준은 별표 3-2와 같다.

제10조 (고온) 작업의 강도에 따른 고온의 노출기준은 별표 4와 같다.

제11조(표시단위) ①가스 및 증기의 노출기준 표시단위는 피피엠(ppm)또는 세제곱미터당 밀리그램(㎎/m3)을 사용한다.

②분진의 노출기준 표시는 ㎎/m3를 사용한다. 다만, 석면의 단위는 개수/㎝3를 사용한다.

③고온의 노출기준 표시단위는 습구흑구온도지수(이하“WBGT"라 한다)를 사용하며 다음식에 의하여 산출한다.

옥외(태양광선이 내리쬐는 장소) : WBGT(˚C)=0.7×자연습구온도+0.2×흑구온도+0.1×건구온도

옥내 또는 옥외(태양광선이 내리쬐지않는 장소) : WBGT(˚C)=0.7×자연습구온도+0.3×흑구온도

부 칙<2002.5.6>

(시행일) 이 고시는 2003년 7월 1일부터 시행한다.

부 칙<2007.6.8>

(시행일) 이 고시는 2008년 1월 1일부터 시행한다.

<별표1-1> 화학물질의 노출기준

일련

번호

유 해 물 질 의 명 칭

화학식

노 출 기 준

비고

(CAS번호 등)

TWA

STEL

국 문 표 기

영 문 표 기

ppm

mg/m3

ppm

mg/m3

구리(분진 및 미스트)

Copper(Dust & mist, as Cu)

CuSO4․5H2O/CuCl

[7440-50-8]

글루타르알데히드

Glutaraldehyde

OCH(CH2)3CHO

C 0.05

C 0.2

[111-30-8]

22의2

니켈(불용성 무기화합물)

Nickel(insoluble inorganic compounds)

0.5

[7440-02-0] A1

니트로메탄

Nitromethane

CH3NO2

[75-52-5]

디니트로톨루엔

Dinitrotoluene

(NO2)2C6H3CH3

0.2

[25321-14-6] Skin

디메틸아미노벤젠

Dimethy1aminobenzene

(CH3)2C6H3NH2

0.5

2.5

[1300-73-8] Skin

디메틸아민

Dimethy1amine

(CH3)2NH

[124-40-3]

1,1-디메틸히드라진

1,1-Dimethylhydrazine

(CH3)2NNH2

0.01

0.025

[57-14-7] A2, Skin

71의2

디아니시딘

Dianisidine

C14H16N2O2

0.01

〔119-90-4〕

디에탄올아민

Diethanolamine

(HOCH2CH2)2NH

0.46

[111-42-2]

2-디에틸아미노에탄올

2-Diethylamino ethanol

(C2H5)2NC2H4OH

9.6

[100-37-8] Skin

디에틸아민

Diethylamine

(C2H5)2NH

[109-89-7]

디옥산

Dioxane(Diethyl dioxide)

OCH2CH2OCH2CH2

[123-91-1] Skin

2,6-디-제3-부틸-p-크레졸

2,6-Di-tert-butyl-p-cresol

C15H24O

[128-37-0]

o-디클로로벤젠

o-Dichlorobenzene

C6H4Cl2

150

300

[95-50-1]

100

p-디클로로벤젠

p-Dichlorobenzene

C6H4Cl2

110

[106-46-7]

103

1,1-디클로로에탄

1,1-Dichloroethane

CH3CHCl2

100

405

[75-34-3]

112의2

1,1-디클로로-1-플루오로에탄

1,1-Dichloro-1-fluoro ethane

C2Cl2FH3

500

〔1717-00-6〕

113

디클로르보스

Dichlorvos

(CH3O)2POOCHCCl2/C4H7Cl2O4P

0.01

0.1

[67-73-7] Skin

149

4,4、-메틸렌비스(2-클로로아닐린)

4,4、-Methylene

bis(2-chloroaniline)

CH2(C6H4ClNH2)2

0.01

0.11

[101-14-4] A2, Skin

151

메틸메타크릴레이트

Methyl methacrylate

CH2C(CH3)COOCH3

205

100

410

[80-62-6]

161

메틸 아민

Methyl amine

CH3NH2

[74-89-5]

166

메틸 아크릴레이트

Methyl acrylate

CH2CHCOOCH3

[96-33-3] Skin

183

메틸 하이드라진

Methyl hydrazine

CH3NHNH2

0.01

0.025

[60-34-4] A2, Skin

186

모노크로토포스

Monocrotophos

C7H14NO5P

0.05

[6923-22-4]

191

몰리브덴(불용성화합물)(총분진)

Molybdenum(Insoluble compounds)(total dust)

Mo/MoS2/PbMoS4

[7439-98-7]

191의2

몰리브덴(불용성화합물)(호흡성분진)

Molybdenum(Insoluble compounds)

(Respirable dust)

Mo/MoS2/PbMoS4

[7439-98-7]

192

몰리브덴(수용성화합물)

Molybdeunum(Soluble compounds)

MoO3/(NH4)2MoO4/CaMo4

0.5

[7439-98-7]

193

무수 말레인

Maleic anhydride

(CHCO)2O

0.1

0.4

[108-31-6]

202

벤젠

Benzene

C6H6

[71-43-2] A2

207

1,3-부타디엔

1,3-Butadiene

CH2CHCHCH2

4.4

[106-99-0] A2

209

2-부톡시에탄올

2-Butoxyethanol

C4H9OCH2CH2OH

[111-76-2] Skin

228의2

1-브로모프로판

1-Bromopropane

CH3CH2CH2Br

125

〔106-94-5〕

231

브롬화 메틸

Methyl bromide

CH3Br

3.9

[74-83-9] Skin

233

브롬화 수소

Hydrogen bromide

HBr

C 2

C 6.62

[10035-10-6]

234

브롬화 에틸

Ethyl bromide

C2H5Br

[74-96-4]

246

산화규소(결정체 석영)(호흡성분진)

Silica(Crystalline quartz)

(Respirable dust)

SiO2

0.05

[14808-60-7]

257

산화아연 분진(호흡성분진)

Zinc oxide

(Respirable dust)

ZnO

[1313-13-2]

282

석탄분진

(호흡성분진)

Coal dust

(Respirable dust)

303

수은(아릴화합물)

Mercury

(Arylcompounds)

0.1

[7439-97-6] Skin

304

수은(아릴 및 알킬 화합물제외)

Mercury(All formsexcept Aryl & alkyl compounds)

0.025

[7439-97-6] Skin

315

시안화 수소

Hydrogen cyanide

HCN

C 4.7

C 5

[74-90-8] Skin

321

시클로헥사논

Cyclohexanone

C6H11O

100

200

[108-94-1] Skin

323

시클로헥산

Cyclohexane

C6H12

200

700

[110-82-7]

347

아크릴 산

Acrylic acid

CH2CHCOOH

[79-10-7]

349의2

아황화니켈

Nickel Subsulfide

Ni3S2

0.1

〔12035-72-2〕 A1

358

알릴글리시딜에테르

Allylglycidyl ether(AGE)

CH2CHCH2

OC3H5O

4.7

[106-92-3] Skin

359

알릴 알콜

Allyl alcohol

CH2CHCH2OH

0.5

1.2

[107-18-6] Skin

360의2

알파나프틸아민

α-Naphthyl amine

C10H7NH2

0.006

〔134-32-7〕

371의2

에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트

Ethyleneglycol monobutyl

ether acetate

C4H9OCH2OO-CH3

131

〔112-07-2〕

383

에틸 아민

Ethyl amine

C2H5NH2

[75-04-7]

389

1,2-에폭시프로판

1,2-Epoxypropane

CH3CHOCH2

[75-56-9]

390

2,3-에폭시-1-프로판올

2,3-Epoxy-1-propanol

C3H6O2

6.1

[556-52-5]

395

염소

Chlorine

Cl2

0.5

1.5

[7782-50-5]

402

염화수소

Hydrogen chloride

HCl

1.5

[7647-01-0]

415

오존

Ozone

0.08

0.16

0.2

0.4

[10028-15-6]

424

유리 섬유 분진

Fibrous glass dust

439

이소아밀아세테이트

Isoamyl acetate

CH3COOCH2CH2CH(CH3)2

260

100

520

[123-92-2]

448

이소프로필 아세테이트

Isopropyl acetate

CH3COOCH(CH3)2

100

420

200

840

[108-21-4]

449

이소프로필 알콜

Isopropyl alcohol

CH3CHOHCH3

200

480

400

980

[67-63-0]

461

일산화탄소

Carbon monoxide

200

229

[630-08-0]

477

카드뮴 및 그 화합물

Cadmium and compounds, as Cd

0.03

[7440-43-9]

492

코발트(금속 분진 및 흄)

Cobalt(Metal dust & fume)

Co/CoO/Co2O2/Co2O2

0.02

[7440-48-4]

502

크롬(6가)화합물(불용성무기화합물)

Chromium(Ⅵ)compounds

(Water insoluble inorganic compounds)

0.01

[7440-47-3] A1

519

클로로벤젠

Chlorobenzene

C6H5Cl

[108-90-7]

529

1-클로로-2,3-에폭시 프로판

1-Chloro-2,3-epoxy propane

C3H5OCl

0.5

1.9

[106-89-8]

543

터펜틴

Turpentine

C10H16

112

[8006-64-2]

557

테트라하이드로퓨란

Tetrahydrofuran

C4H8O

140

100

280

[109-99-9]

563

톨루엔

Toluene

C6H5CH3

188

150

560

[108-88-3]

564의2

톨루엔-2,6-디이소시아네이트

Toluene-2,6-diisocyanate (TDI)

CH3C6H3(NCO)2

0.005

0.04

0.02

0.15

〔91-08-7〕

573

트리메틸아민

Trimethylamine

(CH3)3N

13.2

[75-50-3]

577

트리에틸아민

Triethylamine

(C2H5)3N

8.3

16.6

[121-44-8]

597

티람

Thiram

C6H12N2S4

[137-26-8] Skin

601

파리치온

Parathion

(C2H5O)2PSOC6H4NO2

0.05

[56-38-2] Skin

606

퍼클로로에틸렌

Perchloroethylene

CCl2CCl2

170

100

680

[127-18-4]

616

페닐 에틸렌

Phenyl ethylene

C6H5CHCH2

170

[100-42-5] Skin

632

포름알데히드

Formaldehyde

HCHO

0.5

0.75

1.5

[50-00-0] A2

661

피리딘

Pyridine

C5H5N

[110-86-1]

666

하이드라진

Hydrazine

(NH2)2

0.05

0.06

[302-01-2] A2, Skin

674의2

헥사메틸렌디이소시아네이트

HexamethyleneDiisocyanate

C15H22N2O2

0.005

0.034

〔822-06-0〕

691

황산

Sulfuric acid

H2SO4

0.2

0.6

[7664-93-9]

주: 1. Skin 표시 물질은 점막과 눈 그리고 경피적으로 흡수되어 전신 영향을 일으킬 수 있는 물질을 말함(피부자극성을 뜻하는 것이 아님).

2. Al표시 물질은 발암성물질로 확인된 물질을 말함

3. A2표시 물질은 발암성물질로 추정되는 물질을 말함

<표 1-2> 발암성물질의 노출기준

가. 노출기준 제정 발암성물질

1)발암성물질로 확인된 물질(A1)

일련 번호	유 해 물 질 의 명 칭		화학식	노 출 기 준
				T W A		S TE L
	영 문 표 기	국 문 표 기		ppm	mg/m3	ppm	mg/m3
8	Chromium(VI) compounds as Cr Certain Water insoluble inorganic compounds	6가크롬 불용성무기화합물	Cr	-	0.01	-	-

2)발암성물질로 추정되는 물질(A2)

일련

번호

유 해 물 질 의 명 칭

화학식

노 출 기 준

T W A

S TE L

영 문 표 기

국 문 표 기

ppm

mg/m3

ppm

mg/m3

Benzene

벤젠

C6H6

1,3-Butadiene

1,3-부타디엔

CH2CHCHCH2

4.4

Formaldehyde

포름알데히드

HCHO

0.5

0.75

1.5

Hydrazine-Skin

하이드라진-피부

H2N-NH2

0.05

0.06

Methyl hydrazine-Skin

메틸 하이드라진-피부

CH3NHNH2

0.01

0.025

<별표2-1> 총분진의 노출기준

분진의 종류		노출기준
제1종분진	○ 유리규산(SiO2)30%이상의 분진 ․활석(Talc : 3MgO․4SiO2․H2O) ․납석(Agalmatolite : Al2O3․4SiO2․H2O) ․알루미늄(Aluminum : Al) ․황화광(Sulfide ore)	2mg/m3
제2종분진	○ 유리규산(SiO2)30%미만의 광물성 분진 ․산화철(Iron oxide : FeO) ․천연흑연(Natural graphite) ․카본블랙(Carbon black) ․활성탄(Activated carbon) ․ <삭제>	5mg/m3
제3종분진	○ 기타분진(유리규산 1%이하) ․알파 알루미나(α-Alumina : Al2O3) ․알루미늄 금속(Aluminum metal dust, as Al) ․탄산칼슘(Calcium carbonate : CaCO3) ․칼슘실리케이트(Calcium Silicate) ․셀룰 로우즈(Cellulose, paper fiber : (C6H10O5)n) ․에머리(Emery) ․클리세린 미스트(Glycerin mist : C3H3O3) ․합성흑연(Graphite, synthetic) ․석고(Gypsum) ․고령토(Kaolin) ․석회석(Lime stone) ․자철광(Magnesite : MgCO4) ․대리석(Marble)	10mg/m3

분진의 종류

노출기준

제3종분진

․규조토(Diatomaceous earth)

․광물털섬유(Mineral wool fiber)

․사아질산 펜타에리트리톨(Pentaerythritol)

․소석고(Plaster of Paris)

․퍼라이트(Perlite)

․포틀랜드 시멘트(Portland cement)

․루지(Rouge)

․규소-비결정체(Silica-amorphous)

․실리콘(Silicon)

․탄화규소(Silicon carbide : SiC)

․전분(Starch : (C6H10O5)n)

․자당(Sucrose : C12H22O11)

․이산화티타늄(Titanum dioxide : TiO2)

․식물성 오일 미스트(Vagetable oil mist, except caster, cashew nut, or similar irritant oils)

․스테아린산 아연(Zinc stearate : (C17H23COO)2)

․ <삭제>

․몰리브덴-불용성화합물(Molybdenum, Insoluble compounds)

10mg/m3

석면 및 기타분진

○석면(길이 5μm이상)

․모든형태(All forms)

○면분진(Cotton dust)

○소우프스톤(Soap stone)

0.1개/cm3

0.2mg/m3

6mg/m3

<별표2-2> 호흡성분진의 노출기준

분진의 종류

노출기준

호흡성분진

○석탄분진(Coal dust)

○천연흑연(Graphite, natural)

○파라쿼트(Paraquat)

○실리카-결정체(Silica-Crystalline)

․크리스토바라이트(Crystobalite)

․석영(Quartz)

․규소(Silica, fused)

○트리디마이트(tridymite)

○트리폴리(Tripoli)

○소우프스톤(Soap stone)

○활석(Talc, 석면비함유)

○바나듐 분진 및 흄(Vanadium dust & fume)

○카드뮴 및 그 화합물(Cadmium and compounds, as Cd)

○산화아연분진(Zinc oxide)

○몰리브덴-불용성화합물(Molybdenum, Insoluble compounds)

1mg/m3

2.5mg/m3

0.1mg/m3

0.05mg/m3

0.1mg/m3

0.05mg/m3

0.1mg/m3

3mg/m3

2mg/m3

0.05mg/m3

0.03mg/m3

2mg/m3

5mg/m3

<별표 3-1> 소음의 노출기준(충격소음제외)

1일 노출시간(hr)	소음강도 dB(A)
8	90
4	95
2	100
1	105
1/2	110
1/4	115

주 : 115dB(A)를 초과하는 소음 수준에 노출되어서는 안된다.

<별표 3-2> 충격소음의 노출기준

1일 노출회수	충격소음의 강도 dB(A)
100	140
1,000	130
10,000	120

주 : 1. 최대 음압수준이 140dB(A)를 초과하는 충격소음에 노출되어서는 안된다.

2. 충격소음이라 함은 최대음압수준에 120dB(A)이상인 소음이 1초 이상의 간격으로 발생하는 것을 말한다.

<별표4> 고온의 노출기준

단위 : ℃. WBGT

작업강도

작업휴식시간비

경작업

중등작업

중작업

계 속 작 업

매시간 75%작업, 25%휴식

매시간 50%작업, 50%휴식

매시간 25%작업, 75%휴식

30.0

30.6

31.4

32.2

26.7

28.0

29.4

31.1

25.0

25.9

27.9

30.0

주 : 1. 경 작 업 : 200Kcal까지의 열량이 소요되는 작업을 말하며, 앉아서 또는 서서 기계의 조정을 하기 위하여 손 또는 팔을 가볍게 쓰는 일 등을 뜻함.

2. 중등작업 : 시간당 200~350Kcal의 열량이 소요되는 작업을 말하며, 물체를 들거나 밀면서 걸어다니는 일 등을 뜻함.

3. 중 작 업 : 시간당 350~500Kcal의 열량이 소요되는 작업을 말하며, 곡괭이질 또는 삽질하는 일 등을 뜻함.

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