Polyethylene naphthalate (PEN) 기판 위에 sol-gel 코팅, acrylate 코팅, hexamethyldisiloxane (HMDSO)를 기화시켜 플라즈마 중합한 코팅 등의 water vapor transmission rate (WVTR)의 효과를 알아 보았다. Reactive ion etching (RIE) mode의 plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD)을 사용하여 HMDSO를 기화시켜 SiO_(x) inorganic 층을 증착시켜 FT-IR 분석결과 Si-O-Si stretching, Si-O-Si bending 피크가 관찰되었다. Acrylate coating을 365 nm파장으로 UV 경화시켜 C=C이중 결합이 깨지고 여기에 첨가 반응이 일어나, C-C 단일 결합으로 바뀌어서 C=C 결합의 진동 띠가 작아짐을 확인 하였다. 미처리 PEN의 WVTR은 6.95 g/㎡/day인데 비하여 PEN/sol-gel coating계 WVTR의 값은 6.81 g/㎡/day로 가지고, PEN/acrylate계는 6.49 g/㎡/day를 가져 효과가 미비 하였으나, PEN/SiO_(x)/HMDSO with O₂/SiO_(x) 구조 에서는 디스플레이 기판으로 적용 가능한 1 x 10^(-3) g/㎡/day를 얻었다.
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